KRI 離子源用于離子束拋光機

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量
英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件
氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高溫真空燒結爐氣密性泄露檢測某客戶生產汽車過濾網, 因高溫真空燒結爐氣密性不佳, 導致生產出的過濾網材料出現氧化質量問題, 經過上海伯東推薦, 選用氦質譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結爐進行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經過檢漏后的真空爐, 生產出的過濾網材料無氧化, 達到客戶工藝要求.高溫真空燒結爐氦質譜檢漏法:金屬 (粉末)
HVA 真空閘閥在氣體管路系統應用
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空閘閥在氣體管路系統應用半導體工廠, 太陽能光伏, LED, 鍍膜等行業在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 美國 HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵