HVA 真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應用

時間：2023-05-23作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：63

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• HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• KRI 離子源用于離子束拋光機

  ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,?精度可達亞納米級,?被譽為拋光.?離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學元器件設(shè)備制造商,?主要產(chǎn)品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,?提供精密光學工藝制造研發(fā)服務(wù),?是一家精密光學元器件解

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

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  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺, 實現(xiàn)多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?