KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產研發多工位高真空和高真空排氣臺, 實現多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統在內的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經過上海伯東推薦真空系統**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質譜檢漏儀 ASM 340D?
KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜
?HUD?已經成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產的車用抬頭顯示?HUD?正在從風擋型?W-HUD?逐漸向增強現實型的?AR-HUD?發展：從單純的信息展示屏幕,
HVA 真空閥門應用于E-Beam鍍膜機
某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:&nb
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵