太陽能擴(kuò)散爐

時(shí)間：2014-10-22作者：青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司瀏覽：103

青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司專注于鏈?zhǔn)綘t排,全自動(dòng)擴(kuò)散爐,小型真空爐,加熱爐體,石棉圈,小型馬弗爐等

• 詞條

  詞條說明

• 擴(kuò)散爐

  擴(kuò)散爐由控制系統(tǒng)、進(jìn)出舟系統(tǒng)、爐體加熱系統(tǒng)和氣體控制系統(tǒng)等組成。 控制系統(tǒng) 控制部分包括：溫控器、功率部件、**溫保護(hù)部件、系統(tǒng)控制。 系統(tǒng)控制部分有四個(gè)獨(dú)立的計(jì)算機(jī)控制單元，分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分，是擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)的控制中心。 擴(kuò)散爐網(wǎng)絡(luò)控制 輔助控制系統(tǒng)，包括推舟控制裝置、保護(hù)電路、電路轉(zhuǎn)接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風(fēng)開關(guān)等。 較**的擴(kuò)散爐控制系統(tǒng)均已較新或升級(jí)到微

• 鏈帶式焊接爐

  鏈帶式焊接爐技術(shù)方案 鏈帶式焊接爐主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件，金屬陶瓷，可控硅器件，玻璃封裝器件以及各種厚膜電路等焊接和燒結(jié)的連續(xù)工作的隧道式結(jié)構(gòu)熱處理爐。 一、主要技術(shù)指標(biāo) 1、設(shè)計(jì)溫度：≤700℃ 2、工作溫度：300℃~600℃ 3、爐內(nèi)控溫：±5℃ 4、儀表控制精度：±1℃ 5、設(shè)備總長(zhǎng)度：約10600mm；進(jìn)出口臺(tái)面各為：800mm。 6、加熱區(qū)長(zhǎng)度：≤3000mm（6段加熱） 7、冷卻區(qū)長(zhǎng)

• 太陽能擴(kuò)散爐

  太陽能電池?cái)U(kuò)散工藝及其設(shè)備 太陽能電池?cái)U(kuò)散工藝及其設(shè)備 ????技術(shù)方案是：一種太陽能電池?cái)U(kuò)散工藝，在太陽能電池?cái)U(kuò)散工藝中通控制抽氣排風(fēng)壓力，使抽氣排風(fēng)壓力這個(gè)參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力這個(gè)參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力的穩(wěn)定導(dǎo)致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結(jié)中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風(fēng)壓力通過在機(jī)臺(tái)排

• 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(PECVD)

  ? 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)(PECVD) PECVD（等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積）設(shè)備是一種用于在基片上生成高質(zhì)量SiNx和SiO2薄膜的**設(shè)備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調(diào))，特別適用于半導(dǎo)體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領(lǐng)域科研和生產(chǎn)不可缺少的設(shè)備。 產(chǎn)品特點(diǎn)： 1、膜質(zhì)量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機(jī)（易漏大氣而