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鉬合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 鉬合金靶材是真空鍍膜領域的核心材料之一,主要用于磁控濺射、離子鍍等工藝。這類靶材通常由鉬與其他金屬元素(如鈦、鋯、鎢等)組成,具備高熔點、低濺射速率和優異的導電性,適用于半導體、顯示面板、太陽能電池等高端制造領域。 **高純鉬靶材的優勢** 鉬合金靶材的純度直接影響鍍膜質量。高純度鉬靶材(純度可達99.95%以上)能減少雜質干擾,確保薄膜的均勻性和導電性能。
硼靶材:現代科技中的關鍵材料 在半導體、光伏、顯示面板等行業中,硼靶材是一種不可或缺的功能性材料。它的主要用途是在物理氣相沉積(PVD)或化學氣相沉積(CVD)工藝中,通過濺射或蒸發的方式在基板上形成薄膜,從而賦予材料特定的電學、光學或機械性能。 硼靶材的制備工藝直接影響其性能。高純度硼粉經過壓制、燒結等工序制成靶材,其致密度、晶粒尺寸和雜質含量都會影響濺射薄膜的質量。為了提高濺射效率,靶材通常
中山鈦鋁靶批發鈦鋁靶材作為一種重要的高屬材料,在現代工業中擁有著廣泛的應用。作為中山的一家生產高屬材料和靶材的公司,我們為您提供的鈦鋁靶材產品,并保證其,性能優越。鈦鋁靶材具有高熔點、高強度、耐腐蝕等諸多優點,使其成為物理蒸發技術中的材料之一。通過高溫熔煉后冷卻成型而成的鈦鋁靶材,結合了鈦和鋁的優良性能,為、手機外殼、手表等產品提供了高質量的涂層和裝飾效果,為用戶帶來不同領域的實際應用**。在制備
清遠高純鉻靶批發清遠是一座充滿活力和的城市,也是許多高科技蓬勃發展的地方。在這樣一個環境下,我們公司作為一家的高屬材料生產企業,致力于為客戶提供的高純鉻靶批發服務。高純鉻靶作為PVD技術中的重要材料,廣泛應用于半導體制造、光學鍍膜、磁盤制造等領域。它以鉻元素為主要成分,具有高純度、均勻的化學成分、良好的加工性能以及穩定性。在實際的生產過程中,高純鉻靶扮演著至關重要的角色,其制備工藝和性能直接影響著
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