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高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在
銅鎳鈦合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 銅鎳鈦合金靶材是物理氣相沉積(PVD)技術中不可或缺的核心材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜和裝飾涂層等領域。這種合金靶材憑借其獨特的成分設計和穩定的濺射性能,成為現代精密鍍膜工藝的重要選擇。 銅鎳鈦合金靶材的核心優勢在于其優異的導電性和耐腐蝕性。銅的高導電性確保了濺射過程中穩定的電流傳輸,鎳的加入提升了合金的機械強度和耐高溫性能,而鈦元素則顯著增強了材料的
茂名鉻鋁靶電話茂名鉻鋁靶,一種關鍵的濺射靶材,是茂名公司生產的重要金屬材料之一。鉻鋁靶材的廣泛應用在國內外企業中占據著重要位置,為客戶提供了高性價比的解決方案,并成功替代了許多進口產品。讓我們深入了解一下鉻鋁靶材的特性,制備工藝以及應用領域。鉻鋁靶材是由高純度的鉻和鋁元素按一定比例混合而成,可根據客戶的特定需求制備不同比例的靶材。制備過程中采用了特殊的熔煉方法或粉末冶金法,以確保靶材成分的均勻性和
肇慶鉻鋁靶報價鉻鋁靶材作為一種重要的濺射靶材,其在質量控制、儀器校準以及表面分析技術中扮演著關鍵的角色。作為一家生產高屬材料和濺射靶材的科技型公司,我們公司致力于為客戶提供的鉻鋁靶材產品,以滿足其各種需求。鉻鋁靶材的制備是一個復雜的工藝過程,需要高純度的原料和精密的加工工藝。在我們公司,我們擁有多名中**技術人員,以及的應用實驗室,具備強大的蒸發材料開發能力。我們采用的生產工藝和嚴格的質量控制措施
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