佛山貴金屬靶材廠

時間：2024-08-01作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：638

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  詞條說明

• 四氧化三鐵靶材

  四氧化三鐵靶材：現代科技中的磁性材料瑰寶 四氧化三鐵靶材作為一種重要的功能材料，在多個高科技領域展現出獨特的應用價值。這種材料具有尖晶石結構，由Fe2?和Fe3?共同組成，其特殊的電子結構賦予了它優異的磁性能。 在制備工藝上，四氧化三鐵靶材通常采用粉末冶金法或化學共沉淀法。粉末冶金法通過高純度鐵氧化物粉末的混合、壓制和高溫燒結而成，這種方法能夠精確控制靶材的化學成分和微觀結構。化學共沉淀法則在溶

• 二氧化鈦靶材

  二氧化鈦靶材：光電領域的核心材料二氧化鈦靶材作為一種重要的功能材料，在光電領域扮演著關鍵角色。這種材料以高純度二氧化鈦為主要成分，通過特殊工藝制備成可用于濺射鍍膜的靶材形態。其獨特的物理化學性質使其成為制造光學薄膜、光催化涂層和光伏器件的理想選擇。在制備工藝方面，二氧化鈦靶材的生產過程極為精密。原料首先需要經過嚴格提純，確保純度達到99.9%以上。隨后通過高溫燒結工藝，使粉末顆粒間形成牢固結合，

• 科研專用高純鉬鈮合金靶材

  高純鉬鈮合金靶材：尖端科研的隱形推手在材料科學的精密世界里，高純鉬鈮合金靶材扮演著不可或缺的角色。這種特殊合金以其獨特的物理化學性質，成為眾多前沿科研領域的核心材料之一，尤其在薄膜沉積技術中展現出卓越性能。鉬鈮合金靶材最顯著的特點是極高的純度，通常要求達到99.95%以上。這種近乎完美的純度確保了在濺射過程中不會引入雜質，對于制備高質量的功能薄膜至關重要。鈮元素的加入顯著改善了純鉬的機械性能和耐

• 氧化銅靶材

  氧化銅靶材：半導體制造中的關鍵材料 氧化銅靶材是一種廣泛應用于半導體、光伏和顯示行業的高純度材料，主要用于物理氣相沉積（PVD）工藝。它的核心作用是在基板上形成均勻的薄膜，直接影響器件的導電性能和穩定性。 高純度與均勻性 氧化銅靶材的純度通常要求達到99.99%以上，以確保沉積薄膜的電學性能穩定。任何微量雜質都可能影響薄膜的電阻率和均勻性，因此生產工藝需嚴格控制。在濺射過程中，靶材的密度和微觀結