電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O

時間：2023-02-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：93

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  詞條說明

• 等離子體刻蝕機清洗技術在塑料及橡膠行業中的應用

  等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應，將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質發生反應，形成揮發性反應物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備，是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離

• 生物領域等離子處理機的應用原理分析

  生物領域等離子處理機的應用原理分析，即物質的*四態，是由部分喪失電子的原子和電離產生的自由電子組成的離子氣體物質。這種電離氣體由原子、分子、原子團、離子和電子組成。其作用可以實現物體表面的清潔、活化、蝕刻、精整和等離子處理機表面涂層。由于低溫等離體對物體表面的處理強度小于高溫等離子體，可以保護物體表面。我們在應用中使用的大多是低溫等離子體。而且各種粒子在物體處理過程中所表現出的作用也各不相同。&n

• 工程產品冶金涂層氮氣等離子表面處理方法

  冶金涂層方法用于各種工程產品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如，目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層，用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉

• ?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響

  ?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時，H2添加量對C2H6脫氫反應的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉化及C2H2、C2H4和CH4生成。產生上述結果的可能原因是：一方面氫氣因其導熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，