中國材料大會|鵬城半導體技術（深圳）有限公司

時間：2024-03-18作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司瀏覽：75

鵬城半導體技術（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

• 詞條

  詞條說明

• 鵬城半導體參加第十五屆中國微納電子技術交流與學術研討會

  *十五屆中國微納電子技術交流學術研討會時間：2022年10月28-30日地點：廈門君泰酒店??鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點，尋求創新**與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。公司**業務是半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造。公司人才團隊知識

• 鵬城半導體參加2022深圳市坪山區半導體產業創新發展商端研討會

  2022年5月31日，由廣東省半導體行業協會主辦的以“科技創芯·智匯坪山”為主題的2022年深圳市坪山區半導體產業創新發展**研討會在坪山區創新廣場東部之芯成功舉辦，本次**研討會有效促進產業科研成果與坪山區優勢資源高效對接，得到了深圳市坪山區工業和信息化局的支持。**研討會現場近50位****、院士*及產業界嘉賓出席了本次**研討會，其中主要**及貴賓有坪山區一屆政協**陳主，坪山區副區長吳志

• 真空鍍膜行業發展趨勢，低耗能無污染先進技術

  1、真空鍍膜行業技術水平及特點多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機）-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支，是指為了減少雜質的干擾，在高度真空環境下，通過物理或化學手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉換成氣態或等離子態，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質（簡稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程

• 化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4