鵬城半導體亮相*八屆***三代半導體論壇

時間：2023-02-01

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
2022.03.31最新資訊-早知道
鵬城半導體技術（深圳）有限公司研發設計制造了熱絲CVD金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜、硬質合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內孔鍍金剛石薄膜等。例如可用于生產制造環保領域污水處理用的耐腐蝕金剛石導電電極。可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。平面工作尺寸圓形平面工作的尺寸：較大φ650mm
等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4
熱烈祝賀鵬城半導體獲得第六屆中國·湖州全球高層次人才創新創業大賽一等獎
4月16日，“才聚西塞山青創南太湖”*六屆中國·湖州**高層次人才創新創業大賽暨深圳城市賽正式開賽，前期共征集20多個高層次人才創業項目，經過層層篩選，共有9個項目進入本次城市賽，涉及新能源、新材料、生命健康、AI智能等多個領域。鵬城半導體技術（深圳）有限公司-副總經理孔博士經過激烈的角逐，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）-“大尺寸金剛石晶圓片產業化項目”“斬獲了本次城市賽的一