分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺(tái)

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：47

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  詞條說明

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對(duì)立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• 上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用

  ? ? 紅外光學(xué)薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應(yīng)用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個(gè)領(lǐng)域.?在紅外光學(xué)應(yīng)用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內(nèi)有高而均勻的透過率,?是一種的優(yōu)良紅外光學(xué)材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學(xué)部件廣泛用于各類紅外光學(xué)系統(tǒng).?&nbs

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣