KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：53

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• 氦質(zhì)譜檢漏儀熱交換器檢漏

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• 上海伯東 HVA 真空插板閥應(yīng)用于半導(dǎo)體管道中

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國 HVA?真空插板閥在半導(dǎo)體管道中的應(yīng)用半導(dǎo)體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng) ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),

• 上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應(yīng)用

  ? ? 紅外光學(xué)薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應(yīng)用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個(gè)領(lǐng)域.?在紅外光學(xué)應(yīng)用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內(nèi)有高而均勻的透過率,?是一種的優(yōu)良紅外光學(xué)材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學(xué)部件廣泛用于各類紅外光學(xué)系統(tǒng).?&nbs

• KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

  上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等！KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污