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氨基(NH2)填料與酰胺基(Amide)色譜填料的區別及應用
氨基(NH2)填料與酰胺基(Amide)色譜填料的區別及應用在液相色譜(LC)和親和色譜中,填料的表面官能團決定了其分離選擇性、保留機制和應用范圍。氨基(NH2)和酰胺基(Amide)是兩種常見的色譜填料修飾基團,它們在結構、化學性質及適用場景上存在顯著差異。一、結構區別(1)氨基(NH2)填料氨基填料通常是在硅膠或聚合物基質表面鍵合伯胺基團(—NH?),如氨丙基硅烷(如 NH?-Silica)。
柱層析聚酰胺——高效分離的理想選擇?青島海粟新材料科技有限公司專注于高性能材料的研發與生產,其中柱層析聚酰胺作為一種高效、穩定的層析分離材料,在化學、生物醫藥、環境監測等領域發揮著重要作用。一、柱層析聚酰胺的基本概念柱層析聚酰胺是以聚酰胺為基質的層析填料,通過酰胺鍵(-CONH-)形成的高分子聚合物,具有優異的機械強度和化學穩定性。在柱層析過程中,聚酰胺作為固定相,憑借其豐富的表面官能團
十八烷基硅烷鍵合硅膠薄層板產品介紹一、產品簡介十八烷基硅烷鍵合硅膠薄層板(Octadecylsilyl Silica Gel Thin Layer Plate,簡稱C18-TLC板)是一種基于高效反相薄層色譜(RP-TLC)技術的分離材料。該產品采用高純度硅膠作為基質,通過化學鍵合方式將十八烷基硅烷(C18)固定在硅膠表面,使其具備優異的疏水性和反相色譜分離能力。C18-TLC板廣泛應用于藥物分析
如何有效去除光電材料中的金屬離子光電材料在現代科技中扮演著至關重要的角色,廣泛應用于太陽能電池、LED、光電探測器等領域。然而,光電材料中的金屬離子雜質會顯著影響其性能,導致效率下降、壽命縮短等問題。因此,有效去除光電材料中的金屬離子是提高材料性能的關鍵步驟。一、光電材料中金屬離子的組成與含量光電材料中的金屬離子雜質主要來源于原材料、生產設備和工藝過程等。常見的金屬離子包括鐵(Fe)、銅(Cu)、
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