詞條
詞條說(shuō)明
電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,幾乎每一個(gè)環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達(dá) 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機(jī)物和微生物對(duì)芯片制造過(guò)程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠?yàn)楣饪棠z的
一、軟化水設(shè)備的正確安裝(一)安裝前的準(zhǔn)備工作場(chǎng)地準(zhǔn)備選擇一個(gè)合適的安裝場(chǎng)地,需要考慮設(shè)備的尺寸和操作空間。一般來(lái)說(shuō),設(shè)備周?chē)鷳?yīng)預(yù)留至少 0.5 - 1 米的空間,以便進(jìn)行日常維護(hù)和檢修。場(chǎng)地要平整、干燥,避免有積水或過(guò)于潮濕的情況,防止設(shè)備生銹和電氣元件損壞。安裝場(chǎng)地的溫度應(yīng)保持在合適的范圍內(nèi),通常建議在 5 - 40℃之間。溫度過(guò)高或過(guò)低可能會(huì)影響設(shè)備的性能和使用壽命,特別是對(duì)于一些含有塑料部
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備的反滲透膜多久更換一次?
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備中反滲透膜的更換周期并不是固定的,通常受到以下多種因素的影響:原水水質(zhì)硬度:若原水硬度高,含有大量鈣、鎂等離子,易在反滲透膜表面形成水垢,降低膜通量和分離性能。如以硬度較高的地下水為原水,反滲透膜可能 1-2 年就需更換,具體取決于鈣、鎂離子濃度和設(shè)備預(yù)處理情況4.有機(jī)物含量:原水中有機(jī)物含量高會(huì)污染反滲透膜,其可能吸附在膜表面堵塞微孔,或與其他物質(zhì)反應(yīng)形成凝膠層。若以含有較多腐
EDI 純水設(shè)備一、工作原理離子交換樹(shù)脂的作用EDI(Electrodeionization)純水設(shè)備主要基于離子交換樹(shù)脂來(lái)去除水中的離子。離子交換樹(shù)脂分為陽(yáng)離子交換樹(shù)脂和陰離子交換樹(shù)脂。陽(yáng)離子交換樹(shù)脂帶有酸性基團(tuán),能夠吸附水中的陽(yáng)離子,如鈣(Ca2?)、鎂(Mg2?)、鈉(Na?)等,并將氫離子(H?)釋放到水中。例如,當(dāng)含有鈣、鎂離子的水通過(guò)陽(yáng)離子交換樹(shù)脂時(shí),樹(shù)脂上的氫離子會(huì)與水中的鈣、鎂離子
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