磁控濺射技術原理及應用簡介

時間：2023-10-07

作者：鄭州科探儀器設備有限公司

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你并不了解小型濺射儀
小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似一條擺線。若為環形磁場，則電子就
6英寸高低溫熱臺產品用途介紹
本產品為6英寸高低溫熱臺，能夠在高溫400度和低溫-120度的環境中工作。它是一種用于實驗室、研究及工業生產過程中進行溫度控制的設備，廣泛應用于各類材料的熱處理、熱性能測試、化學反應、生物樣品處理等方面。本產品具有溫度范圍廣、控溫精度高、操作簡便及使用等特點，是實驗室及工業領域非常理想的高低溫熱臺設備。產品用途：1.?材料熱處理：廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料、粉末、納米材料等領域的熱處理、
濕度和氣體濃度實驗設備產品優勢
這個帶有濕度控制的氣體濃度發生器具有一系列強大的功能和性能參數，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性：- AI智能控制算法：采用**的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應各種應用環境。- 高精度流量檢測：流量檢測精度可達到±1% F.S，流量線性
磁控濺射沉積系統設計
?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機